特許法等改正 - 特許訴訟制度および意匠制度の拡充

令和元年(2019年)5月10日に「特許法等の一部を改正する法律案」が可決・成立し、5月17日に公布されました。

 今回の改正により、専門家が工場等に立ち入って侵害立証に必要な調査を行うことができるという、証拠収集のための新たな制度(査証制度)が新設され、損害賠償の算定方法も見直されます(損害賠償の算定方法については、実用新案法、意匠法及び商標法についても同様の改正が実施されます)。また、意匠法については、保護対象が拡充されます。

(1)特許法の一部改正

①中立な技術専門家が現地調査を行う制度(査証)の創設

 特許権の侵害の可能性がある場合、訴訟提起後に当事者からの申立により、裁判所が指定する中立な技術専門家(査証人)が、 被疑侵害者の工場等に立ち入り、特許権の侵害立証に必要な調査を行い、裁判所に報告書を提出する制度が創設されます(105条の2等)。

②損害賠償額算定方法の見直し

(ⅰ)侵害者が得た利益のうち、特許権者の生産能力等を超えるとして賠償が否定されていた部分について、侵害者にライセンスしたとみなして、実施料相当額の損害賠償を請求できることになります(新102条1項2号)。

(ⅱ)ライセンス料相当額による損害賠償額の算定にあたり、 特許権侵害があったことを前提として交渉した場合に決まるであろう額を考慮できる(つまり通常のライセンス契約における実施料よりも高い金額となる可能性あり)旨が明記されます(新102条4項)。

②については実用新案法、意匠法及び商標法において同旨の改正が実施されます。

(2)意匠法の一部改正

①保護対象の拡充

 物品に記録・表示されていない画像、たとえばクラウド上に保存され、ネットワークを通じて提供される画像や、建築物の外観・内装のデザインが、新たに意匠法の保護対象となります(2条)。

②関連意匠制度(自己の出願した意匠又は自己の登録意匠(本意匠)に類似する意匠の登録を認める制度)の見直し(第10条)

 一貫したコンセプトに基づき開発されたデザインを保護可能とするため、

(ⅰ)関連意匠の出願可能期間が、従来は本意匠の登録の公表日まで(出願から8か月程度)であったものが、本意匠の出願日から10年以内までに延長されます。

(ⅱ)関連意匠にのみ類似する意匠の登録も認められるようになります。

③意匠権の存続期間の変更

「登録日から20年」から「出願日から25年」に変更する(21条)。

④意匠登録出願手続の簡素化

(ⅰ)複数の意匠の一括出願を認める。

(ⅱ)物品の名称を柔軟に記載できることとするため、物品の区分を廃止する。

⑤間接侵害規定の拡充

「その物品等がその意匠の実施に用いられることを知っていること」等の主観的要素を規定することにより、取り締まりを回避する目的で侵害品を構成部品に分割して製造・輸入等する行為を取り締まれるようにする。

 なお、上記の改正は、公布の日から起算して1年を超えない範囲内において 政令で定める日に施行される予定です。