[IP News] Verlängerung der Neuheitsschonfrist für Erfindungen, Gebrauchsmuster und Designs in Japan

Der Gesetzesentwurf für die Revision des Japanischen Wettbewerbsrechts wurde am 27. Februar 2018 im Kabinett beschlossen und am 23. Mai 2018 verabschiedet. Das Gesetz wurde am 30. Mai 2018 verkündet und am 9. Juni 2018 treten die Regelungen bezüglich der revidierten Art. 30 JPatG, Art. 11 JGebrMG und Art. 4 JDesignG in Kraft.

 

Mit dieser Revision wird die Neuheitsschonfrist für Erfindungen, Gebrauchsmuster und Designs von 6 Monaten auf 1 Jahr verlängert.

 

Diese Regelung gilt für Anmeldungen, die am oder nach dem 9. Juni 2018 (Stichtag) eingereicht werden. Es ist jedoch zu beachten, dass diese Regelungen nicht auf Erfindungen, Gebrauchsmuster und Designs angewendet werden, die am oder vor dem 8. Dezember 2017 öffentlich zugänglich gemacht wurden, auch wenn die Anmeldung am oder nach dem 9. Juni 2018 eingereicht wird.

 

Beispiele für die Berechnung der Neuheitsschonfrist:

  1. Anmeldedatum 9. Juni 2018: 6 Monate
  2. Anmeldedatum 9. September 2018: 9 Monate (6 Monate + 3 Monate)
  3. Anmeldedatum 9. Dezember 2018: 1 Jahr (6 Monate + 6 Monate)
  4. Anmeldedatum 9. Januar 2019: 1 Jahr

 

Quelle:

http://www.jpo.go.jp/shiryou/kijun/kijun2/hatumei_reigai_encho.htm

http://www.jpo.go.jp/shiryou/kijun/kijun2/ishou_reigai_encho.htm